镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开一镀膜设备，其中所述镀膜设备包括一镀膜装置和一原料气化装置，所述镀膜设备用于通过等离体子气相沉积的方式形成膜层，所述原料气化装置包括：一第一级气化部件，所述第一级气化部件用于将送入的原料进行初级气化；一第二级气化部件，所述第二级气化部件用于将第一级气化部件初级气化后的原料进一步气化；和一进料控制部，其中所述进料控制部用于送入需要被气化的原料，所述进料控制部控制地连通所述第一级气化部件，由此提高原料的气化效率。
基本信息
专利标题 ：
镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021509116.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-27
授权号 ：
CN213417009U
授权日 ：
2021-06-11
发明人 ：
宗坚
申请人 ：
江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市惠山经济开发区玉祁配套区东环路182号
代理机构 ：
宁波理文知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
罗京
优先权 ：
CN202021509116.5
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50 C23C16/455
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2021-06-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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