本申请涉及一种密封件镀膜设备及其镀膜方法，所述密封件镀膜设备包括：固定装置，清洁腔室和镀膜腔室；其中，清洁腔室设置有第一真空泵和等离子体离子源，镀膜腔室设置有第二真空泵和化学气相沉积系统；固定装置用于固定多个密封件，以及将密封件整体从清洁腔室转移到镀膜腔室内；第一真空泵用于对清洁腔室进行抽真空，等离子体离子源用于在真空环境下产生等离子体对所述固定装置上的密封件表面进行清洁；第二真空泵用于对镀膜腔室进行抽真空，化学气相沉积系统在真空环境下采用化学气相沉积工艺对镀膜腔室中所述固定装置上的密封件表面进行镀膜；该技术方案，极大地提高了镀膜效率，并且能够提升薄膜沉积的膜层质量。