镀膜设备
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摘要

本实用新型涉及一种镀膜设备,包括进料仓、镀膜仓和出料仓,进料仓设有间隔的第一闸门和第二闸门以将进料仓分隔为第一准备腔、上料腔和第二准备腔,上料腔与镀膜仓连通且与第一准备腔和第二准备腔分别相邻,出料仓设有第三闸门和第四闸门以将出料仓分隔为第一下料腔、暂存腔和第二下料腔,暂存腔与镀膜仓连通且与第一下料腔和第二下料腔分别相邻。如此,第一准备腔和第二准备腔可以轮流进料和抽真空,第一下料腔和第二下料腔可以轮流下料和抽真空,而上料腔、镀膜仓和暂存腔不受影响,始终保持镀膜所需的真空状态,可以一直连续不断地镀膜,从而解决了在进料、出料的过程中一般镀膜设备无法进行镀膜的问题,使效率大大提高。

基本信息
专利标题 :
镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022026805.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-16
授权号 :
CN213476141U
授权日 :
2021-06-18
发明人 :
蒋立志
申请人 :
维达力实业(深圳)有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙岗区坂田街道雅园路3号3楼、4楼、5楼、6楼的1、2、3、4层
代理机构 :
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 :
戴志攀
优先权 :
CN202022026805.7
主分类号 :
C25D19/00
IPC分类号 :
C25D19/00  C25D17/00  C25D5/00  C23C14/56  C23C16/54  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D19/00
电解镀覆的成套设备
法律状态
2021-06-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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