本实用新型提供了一镀膜设备，其中所述镀膜设备包括一反应腔体、一气体供给部、一真空抽气装置以及一脉冲电源，其中所述反应腔体具有一反应腔，其中所述气体供给部用于向所述反应腔供给气体，其中所述真空抽气装置被可连通于所述反应腔地连接于所述反应腔体，其中所述脉冲电源用于向所述反应腔体提供脉冲电场，其中多个该待镀膜工件被保持于所述反应腔，当所述脉冲电源被连通，所述反应腔体内的气体在脉冲电场的作用下电离产生等离子体并且等离子体朝向该镀膜工件的表面沉积。