镀膜设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种镀膜设备。上述镀膜设备用于给基板镀膜，镀膜设备包括第一中频镀膜室和伸缩件，第一中频镀膜室包括第一中频靶底板和第一靶材，第一中频靶底板设有两个，两个第一中频靶底板错开设置且存在间隔，每一第一中频靶底板设有第一靶材，基板能够从间隔穿过，伸缩件连接于第一中频靶底板，且能够带动第一靶材靠近或者远离基板，进而给基板镀膜。上述镀膜设备，错开的两个第一靶材可以同时对基板进行镀膜，有效的提高了镀膜的镀膜效率，同时第一中频靶底板上的伸缩件可以带动第一靶材靠近或者远离基板，使基板的镀膜操作过程更加灵活。
基本信息
专利标题 ：
镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020231862.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-28
授权号 ：
CN212175029U
授权日 ：
2020-12-18
发明人 ：
易伟华张迅郑芳平徐彬彬洪华俊
申请人 ：
江西沃格光电股份有限公司
申请人地址 ：
江西省新余市高新技术产业开发区西城大道沃格工业园
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
朱志达
优先权 ：
CN202020231862.6
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-12-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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