镀膜设备及其工作方法
授权
摘要
本申请公开了一种镀膜设备及其工作方法，所述镀膜设备包括多个反应腔，且所述多个反应腔通过同一个调压阀与同一个工艺泵连接；所述工作方法包括：在利用所述多个反应腔进行镀膜过程中，控制所述调压阀导通以及所述工艺泵运行以使得所述多个反应腔内的压力保持为第一预定压力；响应于所述调压阀波动且所述多个反应腔内的镀膜过程开始前或停止后，使所述多个反应腔内的压力升高至第二预定压力后，控制所述调压阀导通以及所述工艺泵运行以使得所述多个反应腔内的压力下降至第三预定压力；其中，所述第二预定压力大于所述第一预定压力以及所述第三预定压力。本申请能够充分利用资源，提高调压阀和工艺泵的使用率，降低成本。
基本信息
专利标题 ：
镀膜设备及其工作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113416944A
申请号 ：
CN202110689219.7
公开（公告）日 ：
2021-09-21
申请日 ：
2021-06-22
授权号 ：
CN113416944B
授权日 ：
2022-04-19
发明人 ：
杨明韩方虎韩明新张鹤
申请人 ：
江苏微导纳米科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区漓江路11号
代理机构 ：
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黎坚怡
优先权 ：
CN202110689219.7
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/50 C23C16/52
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2022-04-19 ：
授权
2021-10-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/455
申请日 : 20210622
申请日 : 20210622
2021-09-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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