真空控制组件及镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开一种真空控制组件及镀膜设备，其中，所述真空控制组件用于镀膜设备的真空腔体，所述真空控制组件包括：进出口腔室，所述进出口腔室与所述真空腔体相连通，所述进出口腔室上设置有出气孔；真空泵，设于所述进出口腔室外侧，所述真空泵的抽气管与所述出气孔相连通；以及加热器，设于所述进出口腔室表面，并靠近所述出气孔设置。本实用新型通过采用加热器设置在进出口腔室表面，使加热器能够对进出口腔室的出气孔部位进行加热，以使出气孔部位保持在预设温度，进而可以防止出气孔部位产生结冰而导致真空泵的抽气管堵塞的问题。
基本信息
专利标题 ：
真空控制组件及镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021666439.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-11
授权号 ：
CN212955336U
授权日 ：
2021-04-13
发明人 ：
贾建涛张要朋汪传龙李厚德陈文兵马丰停
申请人 ：
浙江旗滨节能玻璃有限公司;长兴旗滨节能玻璃有限公司
申请人地址 ：
浙江省绍兴市陶堰镇白塔头村1幢3层
代理机构 ：
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人 ：
张志江
优先权 ：
CN202021666439.5
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C03C17/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-04-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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