镀膜玻璃的除膜工艺及设备
专利申请的视为撤回
摘要
在玻璃镀膜生产中的废品的玻璃基片上，由于这层镀膜的存在既不能来重新镀膜，也不能回窑重新熔制玻璃基片，只好全部丢弃。本发明提供一种除膜工艺和设备：将带有镀膜膜层的玻璃基片放入酸溶液、碱溶液或盐溶液中，以镀膜膜层为阳极，并接通直流电流，即可除去玻璃基片的镀膜膜层；除膜设备由提升机构、介质槽和电源组成，提升机构位于介质槽的上方。除膜后再经过清洗、风干，玻璃基片就可重新进行镀膜。
基本信息
专利标题 ：
镀膜玻璃的除膜工艺及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1078506A
申请号 ：
CN92106180.3
公开（公告）日 ：
1993-11-17
申请日 ：
1992-05-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
高霁王毓民
申请人 ：
高霁;王毓民
申请人地址 ：
110000辽宁省沈阳市和平区十纬路同义东里4-2-3-1号
代理机构 ：
辽宁专利事务所
代理人 ：
才瑞祥
优先权 ：
CN92106180.3
主分类号 ：
C25F5/00
IPC分类号 ：
C25F5/00 C25F7/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F5/00
金属层或金属覆层的电解褪除
法律状态
1995-08-02 ：
专利申请的视为撤回
1993-11-17 ：
公开
1992-10-21 ：
实质审查请求已生效的专利申请
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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