本发明提供一种玻璃连续ITO镀膜设备和工艺，包括连续型镀膜舱，所述连续型镀膜舱中部设置有镀膜室，所述连续型镀膜舱两侧的舱室沿镀膜室左右两侧呈对称式排布，所述连续型镀膜舱两端均开设有内外相通的基片装取门槽，所述基片架进入真空过渡舱后将两侧的基片架配合槽进行封堵，若干所述负压孔通过管道与外部设置的负压泵连通，本发明的转运架在连续型镀膜舱内部实现循环转运，在转运过程中转运架通过进出真空过渡舱从而实现转运架在负压的连续型镀膜舱与外环境之间进行切换，减小了气体抽取时间，同时两侧均作为对侧基片的取片位置，又作为新基片的上片位置，从而在一个闭环循环中实现了两次镀膜，相较于传统的镀膜方式，大大提高了镀膜效率。