连续镀膜设备
授权
摘要
本实用新型提供一连续镀膜设备，其中所述连续镀膜设备包括一辅助腔体和一工作腔体，通过对于所述辅助腔体预抽真空可以使得样品自所述辅助腔体被直接运输至所述工作腔体，所述工作腔体由于不需要和外部环境连通因此可以维持在预设的真空度，从而使得整个镀膜过程连续化。
基本信息
专利标题 ：
连续镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022530253.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-11-04
授权号 ：
CN214218851U
授权日 ：
2021-09-17
发明人 ：
宗坚
申请人 ：
江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市惠山经济开发区玉祁配套区东环路182号
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
骆苏华
优先权 ：
CN202022530253.3
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-09-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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