连续镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种连续镀膜设备，包括壳体、传输装置和控制装置，传输装置包括传送轮和传送带，传送轮设于壳体两侧，传送带一端贯穿于壳体内部，壳体内依次设有进片室、缓冲室、镀膜室、冷却清洁室和出片室，缓冲室内设有清洁装置和非真空加热装置，镀膜室一侧设有真空泵，镀膜室两端分别与缓冲室、冷却清洁室密封连接，冷却清洁室设有清洁装置和冷却装置，出片室设有对工件表面镀膜进行检测的检测装置；控制装置用于控制清洁装置、非真空加热装置、真空泵、冷却装置、检测装置及传输装置协同工作。本实用新型可以实现连续镀膜，且工作效率高，操作方便，自动化程度高，具有强的实用性，适合推广使用。
基本信息
专利标题 ：
连续镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021837129.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-28
授权号 ：
CN213295501U
授权日 ：
2021-05-28
发明人 ：
周兴
申请人 ：
启东申通电子机械配件有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市启东市汇龙镇新洪南路99号
代理机构 ：
南京正联知识产权代理有限公司
代理人 ：
李寰
优先权 ：
CN202021837129.5
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-05-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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