立式镀膜设备
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了立式镀膜设备,包括真空腔体和电控设备,第二真空室上端的动力装置带动下端的传动杆,传动杆带动侧壁上套接的第一齿轮,第一齿轮与第二齿轮啮合连接,达到电动锁紧第二真空室与第一真空室,第一真空室侧壁开设的密封槽与第二真空室侧壁上安装的密封圈相互匹配,当第二真空室与第一真空室关闭锁紧时,密封圈卡进密封槽,达到密闭效果,且密封圈正面安装了橡胶垫,在原有的密封效果上,再次增加一层密封保护,使真空腔体内部在真空时不会出现漏气现象,当真空腔体内部开始加热时,第二真空室内腔侧壁安装的玻璃纤维为隔热材质,当工人不小心误触到真空腔体外壁时,也不会出现被烫伤的情况,有效的保护工人在工作时的安全。
基本信息
专利标题 :
立式镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922278951.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-18
授权号 :
CN211256080U
授权日 :
2020-08-14
发明人 :
彭杰真
申请人 :
深圳市山禾乐科技开发有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙华新区观澜街道凹背社区大富工业区11号鹏龙蟠高科技园C栋三楼南
代理机构 :
深圳市远航专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
张朝阳
优先权 :
CN201922278951.6
主分类号 :
C23C14/56
IPC分类号 :
C23C14/56 C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备;维持真空的装置,例如真空锁定器
法律状态
2021-11-26 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C23C 14/56
申请日 : 20191218
授权公告日 : 20200814
终止日期 : 20201218
申请日 : 20191218
授权公告日 : 20200814
终止日期 : 20201218
2020-08-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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