溅射镀膜设备及其固定结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种溅射镀膜设备及其固定结构，固定结构用于将溅射镀膜设备的相互套接的第一构件和第二构件锁紧，其包括：开设在第二构件的用于套装在第一构件内的一部分上的盲孔，盲孔的开口位于所述一部分的外壁且沿着第二构件的径向朝内延伸；安置在第二构件的盲孔内且可沿第二构件的径向在盲孔内伸缩移动的定位珠，用于在第二构件与第一构件套接后紧抵住第一构件的内壁而将第二构件与第一构件锁紧。本实用新型的溅射镀膜设备及其固定结构，结构简单，拆装方便，连接快捷，锁紧可靠性高，极大提高设备的操作效率和便利性。
基本信息
专利标题 ：
溅射镀膜设备及其固定结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022130615.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN213232476U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
魏国庆
申请人 ：
北京格微仪器有限公司
申请人地址 ：
北京市昌平区回龙观镇北清路1号院5号楼2层2单元207-1
代理机构 ：
北京元本知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
秦力军
优先权 ：
CN202022130615.X
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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