一种水平连续式溅射镀膜机无干涉导轨
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摘要
本实用新型公开了一种水平连续式溅射镀膜机无干涉导轨，包括箱体、风机以及三通管，本实用新型在结构上设计简单合理，工作时，将待镀膜方工件放置到载盘上，电机带动主动齿轮、中间轮、从动齿轮转动，使导柱带动载盘移动，且在移动过程中对载盘的左右位置进行限位，以防载盘产生水平位移；外部镀膜装置通过进水口对工件进行镀膜，加热器、温度传感器对工件进行加热和对加热温度进行控制，使镀膜效果更好；风机通过三通管对工件进行风干，使装置的工作效率更高；消音层对装置进行消音，以防装置在使用时对周围环境造成影响；网板以防电机工作时，产生的热量对电机的使用寿命造成影响。
基本信息
专利标题 ：
一种水平连续式溅射镀膜机无干涉导轨
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921894447.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-05
授权号 ：
CN211595787U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
姜建峰
申请人 ：
赫得纳米科技(昆山)有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市昆山开发区高科技工业园都市路21号
代理机构 ：
北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汤东凤
优先权 ：
CN201921894447.2
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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