一种磁控溅射镀膜机的溅射阴极结构

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摘要

本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜机的溅射阴极结构，包括水冷背板和平面靶材，平面靶材安装在水冷背板上，平面靶材包括柔性黏连层、铜背板、粘结层和靶材，靶材由若干块子靶材拼接组成，铜背板由若干块子铜背板拼接组成，子靶材通过粘结层安装在子铜背板上，子铜背板通过柔性黏连层安装在水冷背板上。靶材与铜背板分切成若干段，每段重量适中，便于拿取安装以及运输与拆解。铜背板与水冷背板不直接接触，避免了金属间的硬性碰撞，水冷背板与铜背板通过对柔性层的挤压，接触的更为全面杜绝了缝隙的发生，导电导热效果更为有效，溅射工艺与成膜效果更为优越。通过铜背板的自身重量，配合柔性黏连层，克服因相互之间使用摩擦造成的缝隙。

基本信息

专利标题：

一种磁控溅射镀膜机的溅射阴极结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922419607.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-27

授权号：

CN211227320U

授权日：

2020-08-11

发明人：

郑利波张涛

申请人：

苏州凯利昂光电科技有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市太仓市太仓港经济技术开发区华港路1号

代理机构：

北京连和连知识产权代理有限公司

代理人：

张涛

优先权：

CN201922419607.4

主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/35