一种真空蒸发镀膜设备
授权
摘要
本实用新型提供一种真空蒸发镀膜设备，其中膜料供给机构包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空镀膜室(1)的壁部，所述供料器(41)设置于所述供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)移动，以使在供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在镀膜工作状态时所述供料器(41)的出料口(44)被所述供料座(31)挡闭。整个供料过程仅需供料器相对于供料座移动，供料机构简单，供料步骤简便，提高了膜料供给及整个镀膜工艺效率。
基本信息
专利标题 ：
一种真空蒸发镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021733023.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-19
授权号 ：
CN212293733U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
闫海涛
申请人 ：
布勒莱宝光学设备（北京）有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区经济技术开发区永昌南路2号5号楼
代理机构 ：
北京知汇林知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨华
优先权 ：
CN202021733023.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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