一种蒸发炉及双面镀膜装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种蒸发炉，包括炉体和蒸发坩埚，蒸发坩埚设置在炉体内，炉体的顶面密闭，在炉体内设有加热丝，在炉体的底面设有炉体开孔，在蒸发坩埚的底面也设有与炉体开孔同轴的坩埚通孔，坩埚通孔位于待蒸镀部件上方，在蒸发坩埚内设有盛装蒸镀材料的坩埚容腔，位于坩埚容腔内的蒸镀材料的蒸发气体通过坩埚通孔和炉体开孔后向下沉积到部件表面并蒸镀沉积成所需要的镀层。本实用新型还公开一种使用该蒸发炉的双面镀膜装置。本实用新型对现有的单面镀膜装置进行改造就可以实现双面镀膜，占用体积小，制造成本低。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸发炉及双面镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020540212.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-14
授权号 ：
CN211999890U
授权日 ：
2020-11-24
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
杭州纤纳光电科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市余杭区仓前街道龙潭路7号B幢209室
代理机构 ：
杭州奥创知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨文华
优先权 ：
CN202020540212.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-11-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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