光学镜片镀膜蒸发器遮挡装置
授权
摘要
本实用新型公开了光学镜片镀膜蒸发器遮挡装置，包括底座，所述底座的顶端焊接有第一支杆，所述第一支杆的顶端通过轴承与丝母相连接，所述丝母的顶端插设有丝杆，所述第二支杆的上方设置有遮挡杆，所述遮挡杆底端的左侧开设有转槽，所述转槽左右两侧的内毕节开设有固定槽，所述底座的前端开设有调整仓，且调整仓内部的左右两侧皆插设有调整杆，所述调整杆相互远离的一侧皆焊接有第一固定杆，且第一固定杆的底端皆插设有第二固定杆。本实用新型避免因为用户误碰将该装置碰倒掉落，造成损坏，造成经济损失，使得用户根据自身工作实际的情况来调整不同的高度和遮挡的位置，提高了该装置的实用性。
基本信息
专利标题 ：
光学镜片镀膜蒸发器遮挡装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921711360.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-14
授权号 ：
CN210438823U
授权日 ：
2020-05-01
发明人 ：
李祥孙波
申请人 ：
贵阳鑫昶睿光电技术有限公司
申请人地址 ：
贵州省贵阳市乌当区东风镇界牌村二组
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921711360.7
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 G02B1/11
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-05-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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