一种光学镜片镀膜蒸发器遮挡装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种光学镜片镀膜蒸发器遮挡装置，属于光学镜片技术领域，包括蒸发器本体，所述蒸发器本体的顶部分别安装有滑轨，两组所述滑轨的内部分别活动插接有滑块，两组所述滑块的一侧分别焊接于隔板的一侧，所述隔板的内部开设有凹槽，所述凹槽的内侧设有马达，所述马达的输出轴焊接有扇叶，所述隔板的一侧焊接有外壳，所述外壳的顶部与底部均开设有出气孔，所述外壳的一侧插接有冷气管，所述隔板的一侧焊接于电子推动杆的输出端。本装置结构简单，不仅可以很好的对气化膜料进行阻挡，同时可以加速镜片膜层冷却提高效率。
基本信息
专利标题 ：
一种光学镜片镀膜蒸发器遮挡装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021784114.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-24
授权号 ：
CN212833996U
授权日 ：
2021-03-30
发明人 ：
姚磊
申请人 ：
上饶市西中光学科技有限公司
申请人地址 ：
江西省上饶市上饶经济技术开发区聚远路26号10栋
代理机构 ：
南昌合达信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李良
优先权 ：
CN202021784114.7
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/58
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-03-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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