一种真空镀膜过程中薄膜厚度与蒸发速率测控方法
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摘要
本发明公开了一种真空镀膜过程中薄膜厚度与蒸发速率测控方法,搭建监控系统，并进行在线监控，所述在线监控具体步骤包括：(1)开启测控系统，输入RBF网络和PID参数初始数据，(2)打开真空镀膜设备，(3)利用晶体探头传感器测量附加质量负载的石英晶体振荡的谐振频率，通过谐振频率的改变来确定沉积薄膜质量，然后计算出蒸发速率v和实时膜厚的数值h；(4)蒸发速率发生偏移时，通过RBF神经网络自校正PID控制算法及时调整控制功率以维持蒸发速率的稳定。本发明可以实时监测薄膜厚度、蒸发速率并控制速率的稳定，工作人员通过观察镀膜过程中参数的数值显示与变化情况可以实时的了解工作状况以确保镀膜质量以及镀膜过程中的安全性。
基本信息
专利标题 ：
一种真空镀膜过程中薄膜厚度与蒸发速率测控方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111155056A
申请号 ：
CN202010056528.6
公开（公告）日 ：
2020-05-15
申请日 ：
2020-01-18
授权号 ：
CN111155056B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
牛江川贺自名李素娟申永军杨绍普邢海军王军
申请人 ：
石家庄铁道大学
申请人地址 ：
河北省石家庄市北二环东路17号
代理机构 ：
北京国坤专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵红霞
优先权 ：
CN202010056528.6
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54 G05B11/42
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2020-06-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20200118
申请日 : 20200118
2020-05-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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