薄膜厚度测量装置
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
摘要
薄膜厚度测量装置。本实用新型属于微波测厚技术，是对微波腔体微扰法的改进，并应用于介质薄膜的厚度测量。它采用圆柱型TE。双腔单模作为传感器，被测薄膜位于沿纵向中央所开的横向隙缝中，采取温度自补偿措施和线性好的场效应压控振荡器作为微波振荡源，利用扫频技术实现无接触在线连续自动测量和质检兼容。其测量分辨率和精度高，零漂小，耗散功率小，体积小。
基本信息
专利标题 ：
薄膜厚度测量装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN87207427.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
1987-07-07
授权号 ：
CN87207427U
授权日 ：
1988-04-20
发明人 ：
李焯杨进城钟茂声吕文选
申请人 ：
厦门大学
申请人地址 ：
福建省厦门市思明南路422号
代理机构 ：
厦门大学专利事务所
代理人 ：
马应森
优先权 ：
CN87207427.7
主分类号 ：
G01B15/02
IPC分类号 ：
G01B15/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B15/00
以采用波或粒子辐射为特征的计量设备
G01B15/02
用于计量厚度
法律状态
1991-10-30 ：
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
1989-01-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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