无标样测量薄膜厚度和密度的方法

专利权的终止

摘要

无标样测量薄膜厚度和密度的方法，属于材料分析技术领域。利用X射线以小角度方式入射待测薄膜样品，当入射X射线的有效穿透深度t小于薄膜厚度d时，利用X射线荧光分析仪检测薄膜元素所激发的X射线荧光的相对强度I_F/I_∞，改变入射X射线的波长，可以测得不同的I_F/I_∞值，利用公式I_F/I_∞＝1－e^μρd建立方程组就可解出薄膜的厚度d和密度ρ；当t大于d时，利用X射线荧光分析仪检测基片元素所激发的X射线荧光的相对强度I_T/I_S，改变入射X射线的波长，可以测得不同的I_T/I_S值，利用公式I_T/I_s＝e^μρd建立方程组就可解出薄膜的厚度d和密度ρ。本发明利用不同波长的X射线，通过解方程组来测定样品的厚度和密度，整个方法简单易实现，具有更高的精度和可信度。

基本信息

专利标题：

无标样测量薄膜厚度和密度的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1746617A

申请号：

CN200510021779.6

公开（公告）日：

2006-03-15

申请日：

2005-09-30

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

左长明路胜博邹春梅

申请人：

电子科技大学

申请人地址：

610054四川省成都市建设北路二段四号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN200510021779.6

主分类号：

G01B11/06

IPC分类号：

G01B11/06 G01B15/02 G01B21/08 G01N21/64 G01N23/223