监测薄膜厚度的方法和设备
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明涉及一种监测涂敷在板形基材上的透明涂层的厚度和均匀性的方法。该方法包括将多色光在多处照射在涂层上和测量从所述的涂层反射的光强度。在每一处，至少在两个分离的监测波长下测量反射光的强度，并处理所述的测量值以产生电信号，该信号可与一个或多个预定的阈值比较并与其他处产生的电信号比较，得到该涂层的厚度和均匀性是否在预定的允许值范围内的显示。监测结果可用来调整涂覆工艺。
基本信息
专利标题 ：
监测薄膜厚度的方法和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1085655A
申请号 ：
CN93117694.8
公开（公告）日 ：
1994-04-20
申请日 ：
1993-09-14
授权号 ：
CN1049045C
授权日 ：
2000-02-02
发明人 ：
Ｍ·汉诺逖奥Ｇ·列纳德Ｒ·特努
申请人 ：
格拉沃贝尔公司
申请人地址 ：
比利时布鲁塞尔
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
董嘉扬
优先权 ：
CN93117694.8
主分类号 ：
G01B11/06
IPC分类号 ：
G01B11/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
G01B11/06
用于计量厚度
法律状态
2003-11-12 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2000-02-02 ：
授权
1995-06-14 ：
实质审查请求的生效
1994-04-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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