一种多功能纳米真空镀膜仪
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摘要
本实用新型公开了一种多功能纳米真空镀膜仪，包括蒸发源，所述蒸发源包括具有蒸发腔的柱形坩埚，所述柱形坩埚的顶部设有用于出料的开口，所述蒸发腔内用于放置待蒸发材料，所述柱形坩埚的内底面间隔设有多个第一环形凸起，所述柱形坩埚的外底面上与第一环形凸起对应的位置设有第一环形凹槽，且所述柱形坩埚为氮化硼坩埚。通过在柱形坩埚的底部的上表面间隔设有第一环形凸起，下表面间隔设有第一环形凹槽，在进行真空镀膜时，能增加蒸发材料与柱形坩埚底部的受热接触面积，以提高蒸发效率；且采用氮化硼坩埚，能满足有机材料和金属材料的蒸发条件。
基本信息
专利标题 ：
一种多功能纳米真空镀膜仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020211243.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-25
授权号 ：
CN211689205U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
王宁
申请人 ：
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪建华
优先权 ：
CN202020211243.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54 B82Y30/00 B82Y40/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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