本实用新型涉及一种多功能纳米真空镀膜仪，包括真空腔体，所述真空腔体内设置有样品台、蒸镀源，所述样品台位于真空腔体内的上方、所述蒸镀源位于真空腔体内的下方，所述样品台由翻转机构驱动其能翻转180°，所述蒸镀源内填充有镀膜材料，所述蒸镀源的顶部设置有开孔，所述开孔上端的孔径小于下端的孔径，所述挡板设置在样品台与蒸镀源之间，所述挡板的一侧设置有平移机构，所述平移机构能驱动挡板远离样品台、蒸镀源之间。本实用新型能对基片的两面进行镀膜、增加原材料有效利用率、并能隔离蒸镀源与样品台。