旋转镀膜机构及其应用的连续式镀膜生产线
授权
摘要
本申请涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种旋转镀膜机构及其应用的连续式镀膜生产线，旋转镀膜机构包括可装夹基板工件的基片架，基片架上设置有可随基片架滑动的滚筒组件、以及带动滚筒组件转动的传动机构，滚筒组件包括转动本体，转动本体上设有用于支撑圆筒形工件的支撑部，圆筒形工件支撑于该支撑部上且可随转动本体相对基片架转动以实现真空镀膜。本申请在原有设备中增加可实现圆筒形工件镀膜的旋转镀膜机构，增加镀膜产品种类，既可在基片架上装夹大型平板，完成平板工件的镀膜，也可在滚筒组件上装设圆筒形工件，完成圆筒形工件的镀膜，可镀产品种类增加，提高设备利用率，减少企业投入多种设备，降低投资成本。
基本信息
专利标题 ：
旋转镀膜机构及其应用的连续式镀膜生产线
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020996802.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-03
授权号 ：
CN213172551U
授权日 ：
2021-05-11
发明人 ：
高文波李小彭张亚宁
申请人 ：
洛阳生波尔真空装备有限公司
申请人地址 ：
河南省洛阳市新安县洛新产业集聚区广深路3号
代理机构 ：
中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
石仁
优先权 ：
CN202020996802.3
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-05-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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