本发明公开了一种连续式镀膜设备基片架，包括循环导轨，其与支架固定连接，所述循环导轨内侧设置有齿条；滑块机构，其可移动的设置在循环导轨上，所述滑块机构包括对称设置在循环导轨两侧的侧板，所述侧板之间通过下部的底板连接，所述底板上设置有用于驱动滑块机构沿循环导轨往复运动的第一电机。本发明通过设置能够沿循环导轨往复运动的滑块机构，并且每个滑块机构上均设置有独立的驱动电机，在相应位移传感器和位移的导轨的作用下，驱动电机驱动相应的滑块机构紧密跟随且贴合到前方的滑块机构上，使得在镀膜过程中，相邻的滑块机构之间没有间隙，从阴极溅射的膜层仅仅落在玻璃上，而不会在其他部件上累积，从根本上解决了膜层堆积的缺陷。