本发明公开了一种连续式镀膜设备基片架，包括驱动辊，其设置在位于机架上的转轴上，所述转轴一端与动力装置传动连接；第一磁块，其活动设置在镀膜腔内，且与镀膜喷管固定连接；输送带，其一端环绕设置在驱动辊上所述输送带上等距设置有的多组与镀膜腔相对应的基板。本发明通过设置能够进行循环转动的驱动辊，通过驱动辊的转动驱动输送带连续运动，使得输送带上的工件连续进入到镀膜腔内，无需进行工件装卸，实现连续镀膜；同时，镀膜喷管连接滚轮组件，且活动设置在镀膜腔内，随着驱动辊的转动，滚轮组件沿着滑槽运动，进而驱动镀膜喷管沿镀膜腔上下往复运动，有效避免了复杂形状工件的镀膜死角。