一种基片样品架及镀膜设备
授权
摘要
本实用新型涉及OLED真空蒸镀装备技术领域，公开了一种基片样品架及镀膜设备。所述基片样品架包括安装板；样品架单元，设置于所述安装板上，所述样品架单元包括用于承载基片的基片盘组件和用于承载掩膜板的掩膜架组件，所述掩膜架组件设置于所述基片盘组件的下方；基片盘升降驱动单元，设置于所述安装板上，所述基片盘升降驱动单元的输出端连接所述基片盘组件，所述基片盘升降驱动单元能够驱动所述基片盘组件下降或上升，以使所述基片与所述掩膜板对位贴合或分离；旋转单元，设置于所述安装板，所述旋转单元驱动所述样品架单元绕自身内轴转动。本实用新型解决了蒸镀过程中镀膜效果不均匀的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种基片样品架及镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920452682.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-04
授权号 ：
CN209778979U
授权日 ：
2019-12-13
发明人 ：
廖良生黄稳武启飞徐飞张敬娣赵平
申请人 ：
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江区黎里镇汾湖大道1198号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN201920452682.8
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/50 C23C14/24 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2019-12-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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