一种镀膜机基片架系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种镀膜机基片架系统，包括真空腔室，真空腔室上具有可进行启闭的室门，真空腔室内设置有用于安装基片的镀膜夹具的夹具架，真空腔室上具有用于调节夹具架进行转动的驱动机构，夹具架和驱动机构可拆卸式装配连接，夹具架和驱动机构处于拆卸状态时，夹具架可从打开的室门移出真空腔室。本实用新型提供的上述方案，通过将夹具架设置成可拆卸式结构，这样在真空腔室内进行镀膜时，可以对另一组夹具架装配夹具和待镀膜工件，从而提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜机基片架系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123389045.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
CN216614830U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
张心凤夏正卫刘洋陈玉梅
申请人 ：
安徽纯源镀膜科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市高新区永和路99号一天电气F厂房101-A区
代理机构 ：
合肥九道和专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
胡发丁
优先权 ：
CN202123389045.7
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/56 C23C16/458 C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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