一种镀膜上下料机构
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摘要
本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种镀膜上下料机构，包括基板水平推送机构、基板竖直夹紧机构、基板水平夹紧机构以及基板竖直推送机构，其中基板水平推送机构连接基板竖直夹紧机构，基板竖直夹紧机构可在基板水平推送机构的驱动下沿水平方向位移，且其位移行程位于镀膜架的基板安装位与基板水平夹紧机构之间，基板竖直推送机构连接基板水平夹紧机构，基板水平夹紧机构可在基板竖直推送机构的驱动下沿竖直方向位移，且其位移行程位于基板竖直夹紧机构与料框的基板放置位之间。本实用新型的优点是：实现基板的全自动上下料，机构整体动作节拍快，可缩短基板上下料过程所需的时间，极大提高镀膜流程的整体速度，可实现连续式的真空镀膜。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜上下料机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020700981.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-30
授权号 ：
CN212316239U
授权日 ：
2021-01-08
发明人 ：
余海春陈韶华戴晓东
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN202020700981.1
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C16/54 C23C14/50 C23C16/458
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-01-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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