镀膜装置及载物机构
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种镀膜装置及载物机构，该载物机构包括：载板，包括用于放置待镀膜产品的承载面；阻挡机构，位于所述载板周侧，且所述阻挡机构和所述载板之间具有间隙；在垂直于所述承载面的方向上，所述间隙具有预设深度；在平行于所述承载面的方向上，所述间隙具有预设宽度；调节组件，位于所述间隙内，用于调节所述间隙的所述预设深度和/或所述预设宽度；所述调节组件与所述载板和/或所述阻挡机构相连接。本申请实施方式提供的镀膜装置及载物机构，能够改善镀膜装置的反应腔内的流场分布，从而提高镀膜均匀性。
基本信息
专利标题 ：
镀膜装置及载物机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114411114A
申请号 ：
CN202111623488.X
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李振陈昊王荣朱双双
申请人 ：
江苏微导纳米科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区漓江路11号
代理机构 ：
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李申
优先权 ：
CN202111623488.X
主分类号 ：
C23C16/24
IPC分类号 ：
C23C16/24 C23C16/458 C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/24
仅沉积硅
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/24
申请日 : 20211228
申请日 : 20211228
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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