镀膜夹具及其镀膜载盘
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摘要
一种镀膜夹具及其镀膜载盘，该镀膜夹具包括多个镀膜载盘，该等镀膜载盘可独立使用或形成一直立式的堆栈，每一载盘具有一盘体，在盘体的表面形成一波浪状的构造，且盘体与水平面具有一既定的倾斜角，待镀的工件是置于盘体表面上波浪状构造的凹处。通过该镀膜夹具，可以在有限的镀膜区域中大量提升镀膜工件的数量，并且维持良好的镀膜品质及其均匀性。
基本信息
专利标题 ：
镀膜夹具及其镀膜载盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1990904A
申请号 ：
CN200510137417.3
公开（公告）日 ：
2007-07-04
申请日 ：
2005-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吕明生施进德吴清勋
申请人 ：
财团法人工业技术研究院
申请人地址 ：
中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段一九五号
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN200510137417.3
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2009-04-29 ：
授权
2007-08-29 ：
实质审查的生效
2007-07-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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