一种镀膜用载具及镀膜设备
授权
摘要
本实用新型属于镀膜技术领域，尤其涉及一种镀膜用载具及镀膜设备；其中，镀膜用载具，包括：承载座，用于承载待镀膜的基材；掩膜板，具有一个或多个镀膜口；掩膜板盖设于基材之上并固定安装于承载座，以通过镀膜口对基材的目标位置进行镀膜；其中，掩膜板具有提拉部；通过机械提拉或磁力作用于掩膜板的提拉部，以使掩膜板脱离基材。本实用新型的镀膜用载具，在掩膜板上设计提拉部，放置或者移开掩膜板时，手指或机械手或利用磁力作用可抓取提拉部，可避免触碰基材，进而避免基材表面被划伤，避免镀膜产品报废。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜用载具及镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202121754978.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-07-30
授权号 ：
CN216404512U
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
陶利松程俊华
申请人 ：
杭州乾智新材料研究有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市萧山区闻堰街道三江汇谷19-1-3
代理机构 ：
浙江千克知识产权代理有限公司
代理人 ：
黎双华
优先权 ：
CN202121754978.9
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-04-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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