一种用于光学腔面镀膜设备的载具
授权
摘要
本实用新型涉及半导体激光器技术领域，公开了一种用于光学腔面镀膜设备的载具，包括两个结构相同且对称连接的凹形夹具；凹形夹具是具有一定厚度的方形块体；块体的上端中心向下开设有一个长度为d的凹槽；bar条的长度为D，D＞d；两个凹形夹具之间设有空隙；空隙内插有两组与空隙等厚的垫片；两组垫片设在凹槽的左右两侧；两组垫片之间的距离W大于凹槽的长度d，且W＝D。本实用新型通过将bar条插入带有凹槽的凹形夹具之间，使bar条的正反面均能够得到蒸镀，提高了蒸镀效率；此外凹形夹具之间的空隙大小可变，通过更换不同厚度的垫片，就可对待蒸镀的bar条厚度和数量进行调节，适用范围广。
基本信息
专利标题 ：
一种用于光学腔面镀膜设备的载具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920524375.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-17
授权号 ：
CN209957885U
授权日 ：
2020-01-17
发明人 ：
姚文宇曲迪白国人王磊陈墨李淼
申请人 ：
天津华慧芯科技集团有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区生态城中天大道1620号生态科技园启发大厦12层101
代理机构 ：
天津市鼎和专利商标代理有限公司
代理人 ：
许爱文
优先权 ：
CN201920524375.6
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-01-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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