光学镀膜用坩埚
授权
摘要
本实用新型公开了一种光学镀膜用坩埚，所述坩埚包括底壁及自底壁向外延伸的侧壁，所述底壁的上表面呈凹陷的弧面结构，以增加底壁的散热面积，所述侧壁上沿沿外侧面设有槽口，以提高坩埚的机械强度，所述底壁上的弧面结构与侧壁的内表面相连，所述坩埚内包括位于底壁内的第一收容空间及由侧壁围设而成的第二收容空间，第二收容空间的截面积从下向上逐渐增大。本实用新型中的光学镀膜用坩埚中，底部的弧面结构能够增加底壁的散热面积，侧壁上沿的槽口能够提高坩埚的机械强度，坩埚具有机械强度高、不易变形、散热效果好、使用寿命长等优点。
基本信息
专利标题 ：
光学镀膜用坩埚
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921224344.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-31
授权号 ：
CN210237755U
授权日 ：
2020-04-03
发明人 ：
赵向仁黄坤袁怀刚
申请人 ：
威海世高光电子有限公司
申请人地址 ：
山东省威海市威海经济技术开发区齐鲁大道-附60-2号
代理机构 ：
南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
王茹
优先权 ：
CN201921224344.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-04-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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