一种镀膜用坩埚挡板
实质审查的生效
摘要
本发明涉及真空镀膜技术领域,公开一种镀膜用坩埚挡板,挡板由多块均分的子挡板拼合形成,每块所述子挡板上连接有驱动杆,所述驱动杆可带动子挡板移动且移动过程中不会与相邻子挡板发生干涉。由于整块挡板被均分成多块子挡板,在各子挡板同步移开的过程中,不会存在弧形面扫动空气、影响气态蒸发料流速的现象,保证了气态蒸发料上升速率的稳定性和同向性。各子挡板移开时直接将最中心的坩埚金属源暴露出来进行全方位无死角的同时镀膜,不会造成一侧已经镀膜,另一侧还未镀膜的状况,规避了传统镀膜过程中因挡板旋转造成的镀膜时间差,充分保证了镀膜一开始的均匀性,尤其对于比较薄的镀膜工艺的均匀性和稳定性都有很大的保障和提升。
基本信息
专利标题 :
一种镀膜用坩埚挡板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481036A
申请号 :
CN202210061824.4
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-01-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
赵龙姚浩强李海涛李兆营张磊梁靖
申请人 :
安徽光智科技有限公司
申请人地址 :
安徽省滁州市琅琊经济开发区南京路100号
代理机构 :
北京天盾知识产权代理有限公司
代理人 :
肖小龙
优先权 :
CN202210061824.4
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24 C23C14/30 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20220119
申请日 : 20220119
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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