一种PVD设备镀膜挡板用冷却装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种PVD设备镀膜挡板用冷却装置，包括冷却挡板、冷却设备、第一冷却介质管道和第二冷却介质管道，冷却挡板能罩设在PVD设备主辊的上方，冷却挡板上凸起设置有与冷却介质腔室连通的冷却介质入口、冷却介质出口，冷却设备的出水口与冷却介质入口连通、进水口与冷却介质出口连通，本实用新型的目的在于提供一种PVD设备镀膜挡板用冷却装置，实现冷却挡板自身降温；同时大大降低了因冷却挡板持续过热而导致镀膜两端发生起皱、断膜、串泡的概率。
基本信息
专利标题 ：
一种PVD设备镀膜挡板用冷却装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220116283.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-17
授权号 ：
CN216614822U
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
周高阳李学法张国平
申请人 ：
江阴纳力新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市璜土镇石庄华滨路26号
代理机构 ：
苏州汇诚汇智专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
柯兴宇
优先权 ：
CN202220116283.6
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2022-05-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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