一种镀膜用冷却设备、镀膜设备及卷对卷薄膜
授权
摘要
本申请实施例公开了一种镀膜用冷却设备、镀膜设备及卷对卷薄膜，其中镀膜用冷却设备包括具有冷却气体入口且设于工艺鼓内的至少一个气体循环管路；至少一部分所述气体循环管路嵌入所述工艺鼓内壁且延伸出出口朝向所述工艺鼓外壁上设置的耐磨透气层的至少两个支路，以便对所述耐磨透气层外的柔性基材进行冷却。本申请通过设置采用气体冷却的镀膜用冷却设备，利用气体的快速冷却特点，保证了二次镀膜过程中热量的快速释放，使得两次镀膜过程可以采用相同的速度，进而避免了因速度不同导致膜外观出现MD纹路，两面膜外观不一致的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜用冷却设备、镀膜设备及卷对卷薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021334684.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-09
授权号 ：
CN213357736U
授权日 ：
2021-06-04
发明人 ：
张玉春仲树栋
申请人 ：
北京载诚科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区翠湖南环路13号院1号楼5层501室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021334684.6
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/54 C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-06-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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