带有冷却装置的真空镀膜设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种带有冷却装置的真空镀膜设备,包括真空腔体,所述真空腔体内设置有冷却装置,所述冷却装置包括安装架、风冷装置和循环装置,所述风冷装置和循环装置通过安装架连接,所述风冷装置的出风方向朝向循环冷装置的所在方向,对真空腔体内部进行有效的降温,防止镀膜工艺中的加热过程导致真空腔体内部温度过高,防止真空腔体内部的机械结构发生形变,从而延长真空镀膜设备的使用寿命;同时该冷却装置的多个部件均为可拆卸式连接,方便了用户的安装、拆卸和维修操作,也便于对单个部件进行更换,能有效延长冷却装置的使用寿命。

基本信息
专利标题 :
带有冷却装置的真空镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021662801.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-11
授权号 :
CN213327802U
授权日 :
2021-06-01
发明人 :
王正云刘贺威
申请人 :
苏州众智泽智能科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山开发区中小企业园风琴路108号7号厂房1楼
代理机构 :
北京酷爱智慧知识产权代理有限公司
代理人 :
胡林
优先权 :
CN202021662801.1
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-06-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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