一种镜片真空镀膜用的坩埚装置
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摘要
本实用新型公开了一种镜片真空镀膜用的坩埚装置，包括底座，所述底座顶端镶嵌有转盘，所述转盘顶端焊接有衔接架，所述衔接架顶端旋转安装有坩埚，所述转盘表面焊接有护架，所述护架顶端焊接有托环，所述托环套扣安装于坩埚表面，本实用新型通过底座顶端表面开设的安装孔，使用螺栓将整个装置安装固定于真空镀膜机内，然后将用于加热材料的电子枪卡扣在限位铰链一侧表面螺栓安装的电子枪固定架内，通过旋转电子枪固定架一侧表面旋转安装的紧固螺栓，利用抵靠垫板对电子枪进行施压固定，然后根据使用需求，通过限位转轴和限位铰链对电子枪固定架角度以及朝向进行调节，从而满了电子枪角度以及朝向的需求，方便对坩埚进行加热。
基本信息
专利标题 ：
一种镜片真空镀膜用的坩埚装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922089356.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-28
授权号 ：
CN211394608U
授权日 ：
2020-09-01
发明人 ：
龚正红马志福
申请人 ：
昆明沃特隆光学仪器制造有限公司
申请人地址 ：
云南省昆明市嵩明县杨林工业开发区南环路恒宸工业园9幢A-3-102号1层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201922089356.8
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-09-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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