一种光学镜片真空镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种光学镜片真空镀膜设备，包括箱体，所述箱体包括蒸镀腔，所述蒸镀腔的底部固定安装有熔料槽，所述熔料槽的内部固定安装有加热管，所述熔料槽的顶部转动安装有曝气盘，所述箱体的一侧固定安装有真空泵仓，所述真空泵仓的内部固定安装有真空泵，所述真空泵的输入端固定安装有延伸进蒸镀腔内部的管道，所述真空泵的输出端固定安装有延伸至真空泵仓外部的管道，所述箱体远离真空泵仓的一侧固定安装有电机仓，所述电机仓的内部固定安装有电机，该光学镜片真空镀膜设备可通过电机带动托物盘固定装置转动从而实现光学镜片双面镀膜，有效的简化了操作流程，并提高了光学镜片的镀膜效果。
基本信息
专利标题 ：
一种光学镜片真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921825783.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-28
授权号 ：
CN211170854U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
王晋峰
申请人 ：
南京爱思菲瑞克光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市栖霞区迈皋桥创业园科技研发基地寅春路18号-X142
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921825783.1
主分类号 ：
C23C14/26
IPC分类号 ：
C23C14/26 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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