一种挡板修正方法、镀膜方法和装置
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摘要

本申请提供一种挡板修正方法、镀膜方法和装置,用于对平面行星式旋转镀膜工艺中挡板的形状进行修正,所述方法包括:获取待镀膜元件上多个待遮挡点的镀膜轨迹,以及获取每一待遮挡点对应的原始膜厚,以及获取待修正挡板中与多个待遮挡点对应的遮挡角;根据所述遮挡角确定所述待修正挡板的外形;根据每一待遮挡点对应的镀膜轨迹和所述待修正挡板的外形,计算得到所述待遮挡点对应的实际遮挡膜厚,所述实际遮挡膜厚为根据模拟所述待修正挡板进行遮挡后得到的;根据所有待遮挡点的原始膜厚以及对应的实际遮挡膜厚,对所述待修正挡板进行修正,得到目标挡板。通过理论计算的方式对挡板进行修正,可以提高挡板修正的精确和效率。

基本信息
专利标题 :
一种挡板修正方法、镀膜方法和装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111286699A
申请号 :
CN202010222435.6
公开(公告)日 :
2020-06-16
申请日 :
2020-03-25
授权号 :
CN111286699B
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
罗晋吴倩王震潘峰罗振飞杜雅薇胡建平卫耀伟张飞李树刚唐明王健张清华刘民才
申请人 :
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请人地址 :
四川省成都市武侯区科园一路3号
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
唐正瑜
优先权 :
CN202010222435.6
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/54  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-05 :
授权
2020-07-10 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20200325
2020-06-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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