OPC修正方法及OPC修正装置
授权
摘要
本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种OPC修正方法及OPC修正装置。所述OPC修正方法包括如下步骤：分割目标图案的线条端，形成多个片段；选择一片段作为待处理的目标片段，并检测一目标片段所在的线条端周围预设范围内是否存其他线条端，若是，则将其他线条端作为临近线条端，并将所述目标片段所在的线条端作为目标线条端；沿平行于所述临近线条端指向所述目标线条端的方向移动所述临近线条端上的片段，以实现对所述目标图案的OPC修正。本发明使得目标图案中的多个临近线条端能够同时达到收敛，避免了多线端图形在OPC修正过程中易出现冲突的问题，改善了OPC修正效果。
基本信息
专利标题 ：
OPC修正方法及OPC修正装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112859509A
申请号 ：
CN201911189558.8
公开（公告）日 ：
2021-05-28
申请日 ：
2019-11-28
授权号 ：
CN112859509B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
徐进
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙佳胤
优先权 ：
CN201911189558.8
主分类号 ：
G03F1/36
IPC分类号 ：
G03F1/36
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/36
具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正设计工艺
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2021-06-15 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/36
申请日 : 20191128
申请日 : 20191128
2021-05-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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