OPC修正方法及OPC修正装置
授权
摘要
本发明提供了一种OPC修正方法及OPC修正装置。所述OPC修正方法，包括如下步骤：分割一掩膜图案的边缘，形成多个片段；根据一预设规则获取每一所述片段中的原点；分别对每一所述原点进行多次循环步骤，获取与每一所述原点对应的多个重叠面积；根据各原点之间重叠面积的匹配程度对多个所述原点进行分组；采用相同的补偿值对同一组内各原点所在的片段进行修正；所述循环步骤包括：自所述原点向外延伸预设距离，形成关于所述原点中心对称的评估图形；获取所述评估图形与所述掩膜图案之间的重叠面积，并以所述评估图形整体作为下一次循环的原点。本发明大幅度提高了OPC修正的效率，节省了OPC修正的时间。
基本信息
专利标题 ：
OPC修正方法及OPC修正装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112415855A
申请号 ：
CN201910777988.5
公开（公告）日 ：
2021-02-26
申请日 ：
2019-08-22
授权号 ：
CN112415855B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙佳胤
优先权 ：
CN201910777988.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F1/36
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2021-03-16 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20190822
申请日 : 20190822
2021-02-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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