坩埚
授权
摘要
本实用新型公开了一种坩埚，包括坩埚本体、位于所述坩埚本体上的蒸发腔、包埋于所述坩埚本体内的加热元件、分别电性连接于所述加热元件两端的一对电极，所述加热元件位于所述蒸发腔的外周侧。本实用新型通过加热元件包埋于所述坩埚本体内，使得所述加热元件的外周壁与所述坩埚本体直接接触，在加热的过程中，直接通过所述坩埚本体向所述蒸发腔内进行热传递，热传递效果好；另外，所述坩埚的结构简单，便于生产，且产品良率高。
基本信息
专利标题 ：
坩埚
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922227097.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-12
授权号 ：
CN211999889U
授权日 ：
2020-11-24
发明人 ：
武启飞黄稳廖良生
申请人 ：
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江区黎里镇汾湖大道1198号
代理机构 ：
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
韩晓园
优先权 ：
CN201922227097.0
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-11-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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