一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，属于光学镜头防污、抗指纹领域。本发明包括安装在设备上方的蒸发源单体，蒸发源单体包括药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口，所述药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口从上至下依次密封固定联接，该真空腔体安装在蒸发源单体的下方，蒸发源接口与真空腔体接驳。本发明采用带旋转机构的蒸发源系统，多套蒸发源系统更换工作，能够使加热器有足够时间冷却并添加药液，实现节拍3～5分钟快速AF(AS)连续镀膜生产，大规模批量化生产成为现实；采用矩阵式AF蒸发源点阵，在确保均匀性及耐磨性前提下，AF药液用量的经济最优化实现。
基本信息
专利标题 ：
一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114277354A
申请号 ：
CN202111628727.0
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
徐旻生庄炳河张永胜张晓鹏伍发根杨凤鸣
申请人 ：
深圳奥卓真空设备技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区坂田街道万科城社区居里夫人大道神舟电脑大厦6F-6B(06)
代理机构 ：
深圳市圳博友邦专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王玲玲
优先权 ：
CN202111628727.0
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/24 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/56
申请日 : 20211228
申请日 : 20211228
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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