光学镀膜设备
授权
摘要
本实用新型提供一种光学镀膜设备，其包括：真空室、设置于所述真空室的电子束蒸发系统、适于靶材固定的镀膜夹具。所述镀膜夹具包括：基座、安装于所述基座上的固定夹持机构以及导向机构，所述固定夹持机构包括：固定座、贯穿所述固定座的传动丝杆、螺接于所述传动丝杆上的夹持滑块、位于所述夹持滑块的滑动行程上的夹持固定块以及位于所述夹持滑块和夹持固定块之间的载台。本实用新型通过镀膜夹具实现了不同尺寸靶材的有效固定，进而保证了镀膜的顺利进行，提高了产品的良率。
基本信息
专利标题 ：
光学镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920490993.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-12
授权号 ：
CN209722283U
授权日 ：
2019-12-03
发明人 ：
周少波
申请人 ：
周少波
申请人地址 ：
上海市长宁区延安西路
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920490993.3
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2019-12-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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