一种镀膜腔
授权
摘要
本实用新型公开一种镀膜腔，涉及镀膜设备技术领域，包括连通有蒸发源的腔体本体，所述腔体本体包括顶板、底板和侧板，所述腔体本体连接有腔体本体旋转机构；所述腔体本体内的底板上设置有用于承载被镀膜物的基台；所述底板上开设有一个燕尾槽，所述基台设置在所述底板的燕尾槽上方，所述燕尾槽底部与外部排气泵相连通；所述腔体本体外包覆设置有加热套，所述加热套上设置有通入加热介质的入口和回收加热介质的出口。本实用新型提供的镀膜腔，可以使基材镀膜均匀，镀膜效果好。
基本信息
专利标题 ：
一种镀膜腔
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020486463.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-27
授权号 ：
CN212102991U
授权日 ：
2020-12-08
发明人 ：
程文雅
申请人 ：
珠海凯赛奥表面技术有限公司
申请人地址 ：
广东省珠海市香洲区沿河西路352号（银桦新村）02室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020486463.4
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-12-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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