沉积掩模、制造该沉积掩模的方法和制造显示面板的方法
公开
摘要
本发明的实施例大致涉及沉积掩模、制造该沉积掩模的方法和制造显示面板的方法。根据本发明的实施例的用于制造显示面板的沉积掩模包括：金属基底，具有大约50微米至大约200微米的厚度和限定在该金属基底中的多个开口，其中所述开口中的至少一些包括沿着所述金属基底的厚度方向分别限定的具有第一宽度的第一开口和具有小于所述第一宽度的第二宽度的第二开口，并且其中所述金属基底包括第一部分和第二部分，所述第一开口被限定在所述第一部分中，所述第二开口被限定在所述第二部分中，所述第二部分具有沿着所述金属基底的所述厚度方向在从所述金属基底的顶表面向下的方向上增大的宽度。
基本信息
专利标题 ：
沉积掩模、制造该沉积掩模的方法和制造显示面板的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318218A
申请号 ：
CN202111091801.X
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-09-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄圭焕金桢国金辉南刚铉朴相河李娥凜郑茶姬赵恩翡晋丞民洪宰敏
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京德琦知识产权代理有限公司
代理人 ：
焦立波
优先权 ：
CN202111091801.X
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 C23F1/02 H01L27/32 H01L51/56 B23K26/36
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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